Επικαλυμμένο με SiC βαρέλι Susceptor για LPE PE2061S

Το VeTek Semiconductor είναι ένα επαγγελματικό βαρέλι με επικάλυψη SiC της ΚίναςLPE PE2061Sκατασκευαστής και προμηθευτής.

Το VeTeK Semiconductor Semiconductor SiC-coated susceptor βαρελιού για LPE PE2061S είναι ένα προϊόν υψηλής απόδοσης που δημιουργείται με την εφαρμογή ενός λεπτού στρώματος καρβιδίου του πυριτίου στην επιφάνεια υψηλά καθαρού ισοτροπικού γραφίτη. Αυτό επιτυγχάνεται μέσω του ιδιόκτητου VeTeK SemiconductorΕναπόθεση χημικών ατμών (CVD)διαδικασία.

Ο κάννης με επίστρωση SiC Susceptor για LPE PE2061S είναι ένα είδος αντιδραστήρα κάννης επιταξιακής εναπόθεσης CVD που έχει σχεδιαστεί για να παρέχει αξιόπιστη απόδοση σε ακραία περιβάλλοντα. Η εξαιρετική του πρόσφυση επίστρωσης, η αντοχή στην οξείδωση σε υψηλή θερμοκρασία και η αντοχή στη διάβρωση το καθιστούν εξαιρετική επιλογή για χρήση σε σκληρές συνθήκες. Επιπλέον, το ομοιόμορφο θερμικό προφίλ και το μοτίβο στρωτή ροής αερίου αποτρέπουν τη μόλυνση, εξασφαλίζοντας επιταξιακή ανάπτυξη υψηλής ποιότητας.

Η σχεδίαση σε σχήμα κάννης του ημιαγωγού μαςεπιταξιακός αντιδραστήραςβελτιστοποιεί τα μοτίβα στρωτής ροής αερίου, εξασφαλίζοντας ομοιόμορφη κατανομή θερμότητας. Αυτό βοηθά στην πρόληψη τυχόν μόλυνσης ή διάχυσης ακαθαρσιών,εξασφαλίζοντας υψηλής ποιότητας επιταξιακή ανάπτυξη σε υποστρώματα γκοφρέτας.

Είμαστε αφοσιωμένοι στο να παρέχουμε στους πελάτες μας προϊόντα υψηλής ποιότητας, οικονομικά αποδοτικά. Το βαρέλι Susceptor με επίστρωση CVD SiC προσφέρει το πλεονέκτημα της ανταγωνιστικότητας τιμών, διατηρώντας παράλληλα εξαιρετική πυκνότητα και γιαυπόστρωμα γραφίτηκαιεπίστρωση καρβιδίου του πυριτίου, παρέχοντας αξιόπιστη προστασία σε υψηλές θερμοκρασίες και διαβρωτικά περιβάλλοντα εργασίας.

ΔΕΔΟΜΕΝΑ SEM ΤΗΣ ΚΡΥΣΤΑΛΙΚΗΣ ΔΟΜΗΣ CVD SIC FILM:

Ο επικαλυμμένος με SiC υποδοχέας κάννης για ανάπτυξη μονού κρυστάλλου παρουσιάζει πολύ υψηλή ομαλότητα επιφάνειας.

Ελαχιστοποιεί τη διαφορά στο συντελεστή θερμικής διαστολής μεταξύ του υποστρώματος γραφίτη και

επίστρωση καρβιδίου του πυριτίου, βελτιώνοντας αποτελεσματικά την αντοχή συγκόλλησης και αποτρέποντας το ράγισμα και την αποκόλληση.

Τόσο το υπόστρωμα γραφίτη όσο και η επίστρωση καρβιδίου του πυριτίου έχουν υψηλή θερμική αγωγιμότητα και εξαιρετικές δυνατότητες θερμικής διανομής.

Έχει υψηλό σημείο τήξης, υψηλή θερμοκρασίααντοχή στην οξείδωση, καιαντοχή στη διάβρωση.