Αυτό το άρθρο εισάγει αρχικά τη μοριακή δομή και τις φυσικές ιδιότητες του TaC και εστιάζει στις διαφορές και τις εφαρμογές του πυροσυσσωματωμένου καρβιδίου του τανταλίου και του καρβιδίου του τανταλίου CVD, καθώς και στα δημοφιλή προϊόντα επίστρωσης TaC της VeTek Semiconductor.
Διαβάστε περισσότεραΑυτό το άρθρο εισάγει τα χαρακτηριστικά προϊόντος της επικάλυψης CVD TaC, τη διαδικασία προετοιμασίας της επικάλυψης CVD TaC χρησιμοποιώντας τη μέθοδο CVD και τη βασική μέθοδο για την ανίχνευση μορφολογίας επιφάνειας της προετοιμασμένης επικάλυψης CVD TaC.
Διαβάστε περισσότεραΑυτό το άρθρο παρουσιάζει τα χαρακτηριστικά προϊόντος της επίστρωσης TaC, τη συγκεκριμένη διαδικασία προετοιμασίας προϊόντων επίστρωσης TaC με χρήση της διαδικασίας CVD και εισάγει την πιο δημοφιλή επίστρωση TaC της VeTek Semiconductor.
Διαβάστε περισσότεραΑυτό το άρθρο αναλύει τους λόγους για τους οποίους η επίστρωση SiC αποτελεί βασικό υλικό πυρήνα για την επιταξιακή ανάπτυξη του SiC και εστιάζει στα συγκεκριμένα πλεονεκτήματα της επίστρωσης SiC στη βιομηχανία ημιαγωγών.
Διαβάστε περισσότεραΤο CVD SiC είναι ένα υλικό καρβιδίου του πυριτίου υψηλής καθαρότητας που κατασκευάζεται με χημική εναπόθεση ατμών. Χρησιμοποιείται κυρίως για διάφορα εξαρτήματα και επιστρώσεις σε εξοπλισμό επεξεργασίας ημιαγωγών. Το παρακάτω περιεχόμενο είναι μια εισαγωγή στην ταξινόμηση προϊόντων και τις βασικές λ......
Διαβάστε περισσότερα