Επικάλυψη CVD TAC

Η VeTek Semiconductor είναι κορυφαίος κατασκευαστής, καινοτόμος και ηγέτης της CVD TAC Coating στην Κίνα. Για πολλά χρόνια, εστιάζουμε σε διάφορα προϊόντα CVD TAC Coating, όπως κάλυμμα επίστρωσης CVD TaC, CVD TaC Coating Ring, CVD TaC Coating carrier κ.λπ. Το VeTek Semiconductor υποστηρίζει προσαρμοσμένες υπηρεσίες προϊόντων και ικανοποιητικές τιμές προϊόντων και προσβλέπει σε περαιτέρω διαβούλευση.

Αποστολή Ερώτησης

περιγραφή προϊόντος

Το CVD TaC Coating (επικάλυψη τανταλίου με χημική εναπόθεση ατμού) είναι ένα προϊόν επικάλυψης που αποτελείται κυρίως από καρβίδιο τανταλίου (TaC). Η επίστρωση TaC έχει εξαιρετικά υψηλή σκληρότητα, αντοχή στη φθορά και αντοχή σε υψηλή θερμοκρασία, καθιστώντας την ιδανική επιλογή για την προστασία βασικών εξαρτημάτων του εξοπλισμού και τη βελτίωση της αξιοπιστίας της διαδικασίας. Είναι απαραίτητο υλικό στην επεξεργασία ημιαγωγών.

Τα προϊόντα επίστρωσης CVD TaC χρησιμοποιούνται συνήθως σε θαλάμους αντίδρασης, σε φορείς πλακιδίων και σε εξοπλισμό χάραξης και παίζουν τους ακόλουθους βασικούς ρόλους σε αυτούς.

Η επίστρωση CVD TaC χρησιμοποιείται συχνά για εσωτερικά εξαρτήματα των θαλάμων αντίδρασης όπως υποστρώματα, πάνελ τοίχου και θερμαντικά στοιχεία. Σε συνδυασμό με την εξαιρετική αντοχή σε υψηλές θερμοκρασίες, μπορεί να αντισταθεί αποτελεσματικά στη διάβρωση υψηλής θερμοκρασίας, διαβρωτικών αερίων και πλάσματος, επεκτείνοντας έτσι αποτελεσματικά τη διάρκεια ζωής του εξοπλισμού και διασφαλίζοντας τη σταθερότητα της διαδικασίας και την καθαρότητα της παραγωγής του προϊόντος.

Επιπλέον, οι φορείς γκοφρέτας με επίστρωση TaC (όπως σκάφη χαλαζία, φωτιστικά κ.λπ.) έχουν επίσης εξαιρετική αντοχή στη θερμότητα και αντοχή στη χημική διάβρωση. Ο φορέας γκοφρέτας μπορεί να παρέχει αξιόπιστη υποστήριξη για τη γκοφρέτα σε υψηλές θερμοκρασίες, να αποτρέπει τη μόλυνση και την παραμόρφωση της γκοφρέτας και, επομένως, να βελτιώσει τη συνολική απόδοση των τσιπ.

Επιπλέον, η επίστρωση TaC της VeTek Semiconductor χρησιμοποιείται επίσης ευρέως σε διάφορους εξοπλισμούς χάραξης και εναπόθεσης λεπτής μεμβράνης, όπως μηχανές χάραξης πλάσματος, συστήματα εναπόθεσης χημικών ατμών κ.λπ. , διασφαλίζοντας έτσι την ακρίβεια και την επαναληψιμότητα της διαδικασίας.

Όποιες και αν είναι οι συγκεκριμένες απαιτήσεις σας, θα ταιριάξουμε την καλύτερη λύση για τις ανάγκες σας για CVD TAC Coating και περιμένουμε τη συμβουλή σας ανά πάσα στιγμή.

Βασικές φυσικές ιδιότητες της επικάλυψης CVD TAC:

Φυσικές ιδιότητες επικάλυψης TaC
Πυκνότητα	14,3 (g/cm³)
Ειδική ικανότητα εκπομπής	0.3
Συντελεστής θερμικής διαστολής	6,3 10-6/Κ
Σκληρότητα (HK)	2000 HK
Αντίσταση	1×10-5 Ohm*cm
Θερμική σταθερότητα	<2500℃
Αλλάζει το μέγεθος του γραφίτη	-10~-20 μμ
Πάχος επίστρωσης	≥20um τυπική τιμή (35um±10um)