Χωνευτήριο επικάλυψης CVD TaC

Η VeTek Semiconductor είναι επαγγελματίας κατασκευαστής και ηγέτης των προϊόντων CVD TaC Coating Crucible στην Κίνα. Το CVD TaC Coating Crucible βασίζεται σε επίστρωση άνθρακα τανταλίου (TaC). Η επίστρωση άνθρακα από ταντάλιο καλύπτεται ομοιόμορφα στην επιφάνεια του χωνευτηρίου μέσω της διαδικασίας χημικής εναπόθεσης ατμών (CVD) για να ενισχύσει την αντοχή στη θερμότητα και τη διάβρωση. Είναι ένα υλικό εργαλείο που χρησιμοποιείται ειδικά σε ακραία περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας. Καλωσορίστε την περαιτέρω διαβούλευση σας.

Αποστολή Ερώτησης

περιγραφή προϊόντος

Το TaC Coating Rotation Susceptor διαδραματίζει βασικό ρόλο σε διαδικασίες εναπόθεσης σε υψηλές θερμοκρασίες, όπως CVD και MBE, και είναι ένα σημαντικό συστατικό για την επεξεργασία πλακιδίων στην κατασκευή ημιαγωγών. Ανάμεσά τους,Επικάλυψη TaCέχει εξαιρετική αντοχή σε υψηλές θερμοκρασίες, αντοχή στη διάβρωση και χημική σταθερότητα, η οποία εξασφαλίζει υψηλή ακρίβεια και υψηλή ποιότητα κατά την επεξεργασία της γκοφρέτας.

Το CVD TaC Coating Crucible συνήθως αποτελείται από TaC Coating καιγραφίτηςυπόστρωμα. Μεταξύ αυτών, το TaC είναι ένα κεραμικό υλικό υψηλού σημείου τήξης με σημείο τήξης έως και 3880°C. Έχει εξαιρετικά υψηλή σκληρότητα (σκληρότητα Vickers έως 2000 HV), αντοχή στη χημική διάβρωση και ισχυρή αντοχή στην οξείδωση. Επομένως, το TaC Coating είναι ένα εξαιρετικό υλικό ανθεκτικό σε υψηλές θερμοκρασίες στην τεχνολογία επεξεργασίας ημιαγωγών.

Το υπόστρωμα γραφίτη έχει καλή θερμική αγωγιμότητα (η θερμική αγωγιμότητα είναι περίπου 21 W/m·K) και εξαιρετική μηχανική σταθερότητα. Αυτό το χαρακτηριστικό καθορίζει ότι ο γραφίτης γίνεται ιδανική επίστρωσηυπόστρωμα.

Το CVD TaC Coating Crucible χρησιμοποιείται κυρίως στις ακόλουθες τεχνολογίες επεξεργασίας ημιαγωγών:

Παραγωγή γκοφρέτας: Το χωνευτήριο επίστρωσης VeTek Semiconductor CVD TaC έχει εξαιρετική αντοχή σε υψηλές θερμοκρασίες (σημείο τήξης έως 3880°C) και αντοχή στη διάβρωση, επομένως χρησιμοποιείται συχνά σε βασικές διαδικασίες κατασκευής πλακιδίων όπως η εναπόθεση ατμών σε υψηλή θερμοκρασία (CVD) και η επιταξιακή ανάπτυξη. Σε συνδυασμό με την εξαιρετική δομική σταθερότητα του προϊόντος σε περιβάλλοντα εξαιρετικά υψηλών θερμοκρασιών, διασφαλίζει ότι ο εξοπλισμός μπορεί να λειτουργεί σταθερά για μεγάλο χρονικό διάστημα κάτω από εξαιρετικά σκληρές συνθήκες, βελτιώνοντας έτσι αποτελεσματικά την απόδοση παραγωγής και την ποιότητα των γκοφρετών.

Διαδικασία επιταξιακής ανάπτυξης: Σε επιταξιακές διεργασίες όπως π.χχημική εναπόθεση ατμών (CVD)και μοριακή επιταξία δέσμης (MBE), το CVD TaC Coating Crucible παίζει βασικό ρόλο στη μεταφορά. Η επίστρωση TaC δεν μπορεί μόνο να διατηρήσει την υψηλή καθαρότητα του υλικού σε ακραίες θερμοκρασίες και διαβρωτική ατμόσφαιρα, αλλά επίσης να αποτρέψει αποτελεσματικά τη μόλυνση των αντιδρώντων στο υλικό και τη διάβρωση του αντιδραστήρα, διασφαλίζοντας την ακρίβεια της διαδικασίας παραγωγής και τη συνοχή του προϊόντος.

Ως κορυφαίος κατασκευαστής και ηγέτης CVD TaC Coating Crucible στην Κίνα, η VeTek Semiconductor μπορεί να παρέχει εξατομικευμένα προϊόντα και τεχνικές υπηρεσίες σύμφωνα με τις απαιτήσεις εξοπλισμού και διεργασίας σας. Ελπίζουμε ειλικρινά να γίνουμε ο μακροπρόθεσμος συνεργάτης σας στην Κίνα.

Επικάλυψη καρβιδίου τανταλίου (TaC) σε μικροσκοπική διατομή：

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1

Φυσικές ιδιότητες επικάλυψης TaC：

Φυσικές ιδιότητες επικάλυψης TaC
Πυκνότητα	14,3 (g/cm³)
Ειδική ικανότητα εκπομπής	0.3
Συντελεστής θερμικής διαστολής	6,3*10-6/Κ
Σκληρότητα (HK)	2000 HK
Αντίσταση	1×10-5 Ohm*cm
Θερμική σταθερότητα	<2500℃
Αλλάζει το μέγεθος του γραφίτη	-10~-20 μμ
Πάχος επίστρωσης	≥20um τυπική τιμή (35um±10um)

VeTek Semiconductor Καταστήματα CVD TaC Coating Crucible:

CVD TaC Coating Crucible shops

Hot Tags: Χωνευτήριο επίστρωσης CVD TaC, Κίνα, Κατασκευαστής, Προμηθευτής, Εργοστάσιο, Προσαρμοσμένο, Αγορά, Προηγμένο, Ανθεκτικό, Κατασκευασμένο στην Κίνα

Ετικέτα προϊόντος

Σχετική Κατηγορία