Βάθρο πυριτίου

Το VeTek Semiconductor Silicon Pedestal είναι βασικό συστατικό στις διαδικασίες διάχυσης και οξείδωσης ημιαγωγών. Ως αποκλειστική πλατφόρμα για τη μεταφορά σκαφών πυριτίου σε φούρνους υψηλής θερμοκρασίας, το Silicon Pedestal έχει πολλά μοναδικά πλεονεκτήματα, όπως βελτιωμένη ομοιομορφία θερμοκρασίας, βελτιστοποιημένη ποιότητα πλακιδίων και βελτιωμένη απόδοση συσκευών ημιαγωγών. Για περισσότερες πληροφορίες προϊόντος, μη διστάσετε να επικοινωνήσετε μαζί μας.

Αποστολή Ερώτησης

περιγραφή προϊόντος

Το VeTek Semiconductor Silicon susceptor είναι ένα προϊόν καθαρού πυριτίου που έχει σχεδιαστεί για να εξασφαλίζει σταθερότητα θερμοκρασίας στο σωλήνα θερμικού αντιδραστήρα κατά την επεξεργασία πλακιδίων πυριτίου, βελτιώνοντας έτσι την απόδοση θερμομόνωσης. Η επεξεργασία πλακιδίων πυριτίου είναι μια εξαιρετικά ακριβής διαδικασία και η θερμοκρασία διαδραματίζει κρίσιμο ρόλο, επηρεάζοντας άμεσα το πάχος και την ομοιομορφία της μεμβράνης γκοφρέτας πυριτίου.

Το βάθρο πυριτίου βρίσκεται στο κάτω μέρος του σωλήνα θερμικού αντιδραστήρα του κλιβάνου, υποστηρίζοντας το πυρίτιοφορέας γκοφρέταςενώ παρέχει αποτελεσματική θερμομόνωση. Στο τέλος της διαδικασίας, σταδιακά ψύχεται σε θερμοκρασία περιβάλλοντος μαζί με τον φορέα γκοφρέτας πυριτίου.

Βασικές λειτουργίες και πλεονεκτήματα των VeTek Semiconductor Silicon Pedestals:

Παρέχετε σταθερή υποστήριξη για να διασφαλίσετε την ακρίβεια της διαδικασίας

Το Silicon Pedestal παρέχει μια σταθερή και εξαιρετικά ανθεκτική στη θερμότητα πλατφόρμα στήριξης για το σκάφος πυριτίου στον θάλαμο του κλιβάνου υψηλής θερμοκρασίας. Αυτή η σταθερότητα μπορεί να αποτρέψει αποτελεσματικά το σκάφος πυριτίου από τη μετατόπιση ή την κλίση κατά την επεξεργασία, αποφεύγοντας έτσι την ομοιομορφία της ροής του αέρα ή την καταστροφή της κατανομής της θερμοκρασίας, εξασφαλίζοντας υψηλή ακρίβεια και συνέπεια της διαδικασίας.

Βελτιώστε την ομοιομορφία θερμοκρασίας στον κλίβανο και βελτιώστε την ποιότητα της γκοφρέτας

Απομονώνοντας το σκάφος πυριτίου από την άμεση επαφή με τον πυθμένα ή το τοίχωμα του κλιβάνου, η βάση πυριτίου μπορεί να μειώσει την απώλεια θερμότητας που προκαλείται από την αγωγιμότητα, επιτυγχάνοντας έτσι μια πιο ομοιόμορφη κατανομή θερμοκρασίας στον σωλήνα θερμικής αντίδρασης. Αυτό το ομοιόμορφο θερμικό περιβάλλον είναι απαραίτητο για την επίτευξη ομοιομορφίας της διάχυσης του πλακιδίου και του στρώματος οξειδίου, βελτιώνοντας σημαντικά τη συνολική ποιότητα του πλακιδίου.

Βελτιστοποιήστε την απόδοση θερμομόνωσης και μειώστε την κατανάλωση ενέργειας

Οι εξαιρετικές θερμομονωτικές ιδιότητες του υλικού βάσης πυριτίου συμβάλλουν στη μείωση της απώλειας θερμότητας στον θάλαμο του κλιβάνου, βελτιώνοντας έτσι σημαντικά την ενεργειακή απόδοση της διαδικασίας. Αυτός ο αποτελεσματικός μηχανισμός διαχείρισης θερμότητας όχι μόνο επιταχύνει τον κύκλο θέρμανσης και ψύξης, αλλά μειώνει επίσης την κατανάλωση ενέργειας και το λειτουργικό κόστος, παρέχοντας μια πιο οικονομική λύση για την κατασκευή ημιαγωγών.

Προδιαγραφές VeTek Semiconductor Silicon Pedestal

Δομή προϊόντος	Ενσωματωμένο, Συγκόλληση
Αγώγιμος Τύπος/Ντόπινγκ	Εθιμο
Αντίσταση	Χαμηλή αντίσταση (E.G.<0,015,<0,02...). ;
	Μέτρια Αντίσταση (E.G.1-4);
	Υψηλή αντίσταση (E.G. 60-90);
	Προσαρμογή πελάτη
Τύπος υλικού	Πολυκρύσταλλο/Μονόκρύσταλλο
Κρυσταλλικός Προσανατολισμός	Προσαρμοσμένο