Άκαμπτη τσόχα με επίστρωση CVD SiC

Ως σημαντικό μέρος των τμημάτων γραφίτη μισοφέγγαρου επικάλυψης SiC, η άκαμπτη τσόχα επίστρωσης CVD SiC παίζει σημαντικό ρόλο στη διατήρηση της θερμότητας κατά τη διαδικασία επιταξιακής ανάπτυξης του SiC. Η VeTek Semiconductor είναι ένας ώριμος κατασκευαστής και προμηθευτής άκαμπτης τσόχας επίστρωσης CVD SiC, ο οποίος μπορεί να παρέχει στους πελάτες κατάλληλα και εξαιρετικά προϊόντα άκαμπτης τσόχας με επίστρωση CVD SiC. Η VeTek Semiconductor ανυπομονεί να γίνει ο μακροχρόνιος συνεργάτης σας στον κλάδο των επιταξιακών.

Αποστολή Ερώτησης

περιγραφή προϊόντος

Η άκαμπτη τσόχα επίστρωσης CVD SiC είναι ένα συστατικό που λαμβάνεται με επίστρωση CVD SiC στην επιφάνεια της άκαμπτης τσόχας από γραφίτη, η οποία λειτουργεί ως στρώμα θερμομόνωσης.Επίστρωση CVD SiCέχει εξαιρετικές ιδιότητες όπως αντοχή σε υψηλές θερμοκρασίες, εξαιρετικές μηχανικές ιδιότητες, χημική σταθερότητα, καλή θερμική αγωγιμότητα, ηλεκτρική μόνωση και εξαιρετική αντοχή στην οξείδωση. Έτσι, η άκαμπτη τσόχα επίστρωσης CVD SiC έχει καλή αντοχή και αντοχή σε υψηλή θερμοκρασία και χρησιμοποιείται συνήθως για θερμομόνωση και στήριξη θαλάμων επιταξιακής αντίδρασης.

Ιδιότητες άκαμπτης τσόχας υψηλής καθαρότητας:

● Αντοχή σε υψηλή θερμοκρασία: Η άκαμπτη τσόχα με επίστρωση CVD SiC μπορεί να αντέξει θερμοκρασίες έως και 1000℃ ή περισσότερες, ανάλογα με τον τύπο του υλικού.

● Χημική σταθερότητα: Η άκαμπτη τσόχα επίστρωσης CVD SiC μπορεί να παραμείνει σταθερή στο χημικό περιβάλλον της επιταξιακής ανάπτυξης και να αντέξει τη διάβρωση των διαβρωτικών αερίων.

● Θερμομονωτική απόδοση: Η άκαμπτη τσόχα επίστρωσης CVD SiC έχει καλό αποτέλεσμα θερμικής απομόνωσης και μπορεί να αποτρέψει αποτελεσματικά τη διάχυση της θερμότητας από τον θάλαμο αντίδρασης.

● Μηχανική αντοχή: Η σκληρή τσόχα επίστρωσης SiC έχει καλή μηχανική αντοχή και ακαμψία, έτσι ώστε να διατηρεί το σχήμα της και να υποστηρίζει άλλα εξαρτήματα σε υψηλές θερμοκρασίες.

Άκαμπτος γραφίτης τσόχαΛειτουργία:

● Θερμομόνωση: Η άκαμπτη τσόχα με επίστρωση CVD SiC παρέχει θερμομόνωση γιαSiC επιταξιακόθαλάμους αντίδρασης, διατηρεί το περιβάλλον υψηλής θερμοκρασίας στον θάλαμο και εξασφαλίζει τη σταθερότητα της επιταξιακής ανάπτυξης.

● Διαρθρωτική στήριξη: Η άκαμπτη τσόχα επίστρωσης CVD SiC παρέχει υποστήριξη γιαμέρη μισοφέγγαρουκαι άλλα εξαρτήματα για την αποφυγή πιθανής παραμόρφωσης ή ζημιάς υπό υψηλή θερμοκρασία και υψηλή πίεση.

● Έλεγχος ροής αερίου: Βοηθά στον έλεγχο της ροής και της κατανομής του αερίου στο θάλαμο αντίδρασης, διασφαλίζοντας την ομοιομορφία του αερίου σε διάφορες περιοχές, βελτιώνοντας έτσι την ποιότητα του επιταξιακού στρώματος.

Το VeTek Semiconductor μπορεί να σας προσφέρει προσαρμοσμένη άκαμπτη τσόχα επίστρωσης CVD SiC σύμφωνα με τις ανάγκες σας. Το VeTek Semiconductor περιμένει το ερώτημά σας.

ο Βασικές φυσικές ιδιότητες της επίστρωσης CVD SiC:

Βασικές φυσικές ιδιότητες της επίστρωσης CVD SiC
Ιδιοκτησία	Τυπική τιμή
Κρυσταλλική Δομή	Πολυκρυσταλλική φάση β FCC, κυρίως (111) προσανατολισμένη
Πυκνότητα	3,21 g/cm³
Σκληρότητα	2500 Vickers σκληρότητα (500 g φορτίο)
Grain Youe	2~10μm
Χημική Καθαρότητα	Χημική Καθαρότητα 99,99995%
Θερμοχωρητικότητα	640 J·kg^-1·Κ^-1
Θερμοκρασία εξάχνωσης	2700℃
Καμπτική Αντοχή	415 MPa RT 4 σημείων
Το Modulus του Young	430 Gpa 4pt κάμψη, 1300℃
Θερμική αγωγιμότητα	300 W·m^-1·Κ^-1
Θερμική Διαστολή (CTE)	4,5×10^-6K^-1

Καταστήματα άκαμπτης τσόχας με επίστρωση CVD SiC:

veteksemi High Purity Graphite Rigid Felt veteksemi Rigid Graphite Felt veteksemi Graphite Rigid Felt veteksemi rigid felt based Graphite

Hot Tags: άκαμπτη τσόχα επίστρωσης CVD SiC, Κίνα, Κατασκευαστής, Προμηθευτής, Εργοστάσιο, Προσαρμοσμένη, Αγορά, Προηγμένη, Ανθεκτική, Κατασκευασμένη στην Κίνα

Ετικέτα προϊόντος

Σχετική Κατηγορία